Kunihide Tachibana: "In situ ellipsometric monitoring of the growth of polycrystalline silicon thin films by RF plasma chemical vapor deposition" Japanese Journal of Applied Physics. 33. 4191-4194 (1994)
Kunihide Tachibana: "In situ ellipsometric monitoring of the growth of polycrystalline silicon thin films by RF plasma chemical vapor deposition" Japanese Journal of Applied Physics. 33. 4191-4194 (1994)
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Kunihide Tachibana：“通过射频等离子体化学气相沉积对多晶硅薄膜生长进行原位椭圆测量监测”日本应用物理学杂志。
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