Effect of heat-treatment oxygen partial pressure on the crystal orientation of PZT films prepared by RF magnetron sputtering
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热处理氧分压对射频磁控溅射PZT薄膜晶体取向的影响
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.Miyazaki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Miyazaki
