内殻光電子分光法によるHf/Si(111)超薄膜表面界面の酸化ダイナミクス
内殻光電子分光法によるHf/Si(111)超薄膜表面界面の酸化ダイナミクス
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内壳光电子能谱研究 Hf/Si(111) 超薄膜表面界面的氧化动力学
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
吉越章隆
中科院分区：
文献类型：
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作者：
垣内拓大;的場友希;小山大輔;山本優貴;吉越章隆
