T. Takahagi 他4名: "Aluminum-selective chemical vapor deposition induced by hydrogen desorption on silicon" Jpn. J. Appl. Phys.35-2B. 1010-1013 (1996)
T. Takahagi 他4名: "Aluminum-selective chemical vapor deposition induced by hydrogen desorption on silicon" Jpn. J. Appl. Phys.35-2B. 1010-1013 (1996)
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T. Takahagi 等 4 人：“硅上氢解吸引起的铝选择性化学气相沉积”J. Appl. 1010-1013 (1996)。
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