Yuko Nakagami: "Plasma CVD of Thermally Stable Low Dielectric Constant Fluorocarbon Thin Films Using C_2F_4 and Si(NCO)_4" Proceedings of the 15th Symposium on Plasma Processing. 15. 9-12 (1998)
Yuko Nakagami: "Plasma CVD of Thermally Stable Low Dielectric Constant Fluorocarbon Thin Films Using C_2F_4 and Si(NCO)_4" Proceedings of the 15th Symposium on Plasma Processing. 15. 9-12 (1998)
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Yuko Nakagami：“使用 C_2F_4 和 Si(NCO)_4 的热稳定低介电常数氟碳薄膜的等离子体 CVD”第 15 届等离子体处理研讨会论文集。
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