MOCVD法による高品質エピタキシゃルPb(Zr,Ti)O_3極薄膜の作製
MOCVD法による高品質エピタキシゃルPb(Zr,Ti)O_3極薄膜の作製
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MOCVD法制备高质量外延Pb(Zr,Ti)O_3超薄膜
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
住井 亮介
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Fujisawa;et. al.;米谷 匡司;比企 透雄;米谷 匡司;住井 亮介
