Akira Yamada: "Heavily P-Doped(>10^<21>cm^<-3>)Silicon Films Grown by Photo-chemical Vapor Deposition at a Very Low Temperature of 250℃" Jpn.J.Appl.Phys.28. 2284-2287 (1989)
Akira Yamada: "Heavily P-Doped(>10^<21>cm^<-3>)Silicon Films Grown by Photo-chemical Vapor Deposition at a Very Low Temperature of 250℃" Jpn.J.Appl.Phys.28. 2284-2287 (1989)
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Akira Yamada：“在 250℃ 极低温度下通过光化学气相沉积生长的重磷掺杂（>10^<21>cm^<-3>）硅薄膜”Jpn.J.Appl.Phys.28。 2284-2287 (1989)
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