N.Sugimoto, I.Kajita, T.Kondo, A.Hozumi and O.Takai: "Effects of Substrate Temperature of Properties of Fluorine Contained Silicon Oxide Films Prepared by Microwave Plasma-enhanced CVD" J.Korean Inst.of Surf.Eng.29. 577-584 (1996)
N.Sugimoto, I.Kajita, T.Kondo, A.Hozumi and O.Takai: "Effects of Substrate Temperature of Properties of Fluorine Contained Silicon Oxide Films Prepared by Microwave Plasma-enhanced CVD" J.Korean Inst.of Surf.Eng.29. 577-584 (1996)
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N.Sugimoto、I.Kajita、T.Kondo、A.Hozumi 和 O.Takai：“基材温度对微波等离子体增强 CVD 制备的含氟氧化硅薄膜性能的影响” J.Korean Inst.of Surf.Eng
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