65nm CMOSプロセスでの偏光計測イメージセンサの開発
65nm CMOSプロセスでの偏光計測イメージセンサの開発
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采用65nm CMOS工艺开发偏振图像传感器
DOI:
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发表时间:
2010
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
太田淳
中科院分区:
文献类型:
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作者:
宍戸三四郎;野田俊彦;笹川清隆;徳田崇;太田淳