Characteristics of the Hf<sub>0.5</sub>Zr<sub>0.5</sub>O<sub>2</sub> Thin Films Grown by a Chemical Solution Deposition Method
Characteristics of the Hf<sub>0.5</sub>Zr<sub>0.5</sub>O<sub>2</sub> Thin Films Grown by a Chemical Solution Deposition Method
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化学溶液沉积法生长Hf<sub>0.5</sub>Zr<sub>0.5</sub>O<sub>2</sub>薄膜的特性
DOI：
10.2472/jsms.68.745
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
小池 一歩
中科院分区：
文献类型：
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作者：
矢野 満明;井上 泰一;大田 宗司;河本 泰輝;広藤 裕一;小山 政俊;小池 一歩
