M. Adachi, T. Fujimoto, Y. Itoh and K. Okuyam: "Numerical Simulation of Films Formed by Cluster/particle Dposition in Aimospheric Pressure Chemical Vapor Deposition Process Using Organic Slilcon Vapors and Ozone Gas"Jpn. J. Appl. Phys.. 39(印刷中). (2000)
M. Adachi, T. Fujimoto, Y. Itoh and K. Okuyam: "Numerical Simulation of Films Formed by Cluster/particle Dposition in Aimospheric Pressure Chemical Vapor Deposition Process Using Organic Slilcon Vapors and Ozone Gas"Jpn. J. Appl. Phys.. 39(印刷中). (2000)
复制标题
M. Adachi、T. Fujimoto、Y. Itoh 和 K. Okuyam：“使用有机硅蒸气和臭氧气体在大气压力化学气相沉积过程中通过簇/颗粒沉积形成的薄膜的数值模拟”J. Appl。 39（正在出版）（2000）。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
