フォトニック結晶作製における電子ビーム露光条件依存性

フォトニック結晶作製における電子ビーム露光条件依存性
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光子晶体制造中电子束曝光条件的依赖性

DOI:
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发表时间:
2012
期刊:
2012 年秋季第73回応用物理学会学術講演会予稿集
影响因子:
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通讯作者:
横山新
横山新
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
原田祥典;雨宮嘉照;横山新

文献摘要

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