H.Nakashima, K.Furukawa, Y.C.Liu, D.W.Gao, Y.Kashiwazaki, K.Muraoka, K.Shibata,and T.Tsurushima: "Low-Temperature Deposition of High Quality Silicon Dioxide Films by Sputtering-type Electron Cyclotron Resonance Plasma" J.Vac.Sci.Technol.A. 15. 1951-1954 (
H.Nakashima, K.Furukawa, Y.C.Liu, D.W.Gao, Y.Kashiwazaki, K.Muraoka, K.Shibata,and T.Tsurushima: "Low-Temperature Deposition of High Quality Silicon Dioxide Films by Sputtering-type Electron Cyclotron Resonance Plasma" J.Vac.Sci.Technol.A. 15. 1951-1954 (
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H.Nakashima、K.Furukawa、Y.C.Liu、D.W.Gao、Y.Kashiwazaki、K.Muraoka、K.Shibata 和 T.Tsurushima：“利用溅射型电子回旋共振等离子体低温沉积高质量二氧化硅薄膜”
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