N.Takahashi, K.Terada, T.Nakamura: "Growth of tin nitride tin films by atmospheric pressure chemical vapor deposition using halide sources."J.Mater.Sci.. Vol.20. 227-229 (2001)
N.Takahashi, K.Terada, T.Nakamura: "Growth of tin nitride tin films by atmospheric pressure chemical vapor deposition using halide sources."J.Mater.Sci.. Vol.20. 227-229 (2001)
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N.Takahashi、K.Terada、T.Nakamura：“使用卤化物源通过大气压化学气相沉积生长氮化锡锡膜。”J.Mater.Sci.. Vol.20。
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