Exposing extreme ultraviolet lithography at Intel
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英特尔曝光极紫外光刻技术
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Guojing Zhang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Roberts;Terence Bacuita;R. Bristol;H. Cao;M. Chandhok;S. Lee;M. Leeson;T. Liang;Eric M. Panning;B. Rice;U. Shah;M. Shell;W. Yueh;Guojing Zhang
