Technical Feasibility of Electrochemical Fenton-Type Process Using Cu(I)/HOCl System
Technical Feasibility of Electrochemical Fenton-Type Process Using Cu(I)/HOCl System
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使用 Cu(I)/HOCl 系统的电化学 Fenton 型工艺的技术可行性
DOI：
10.2965/jwet.17-023
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发表时间：
2018
影响因子：
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通讯作者：
Hideo OTSU
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Saki ITO;Takehiro UKAWA;Naoyuki KISHIMOTO;Masaaki KATO;Hideo OTSU
