Isotropic Wet Etching and Improving Surface Flatness of Ge for Etchback Ge-on-Insulator Fabrication
Isotropic Wet Etching and Improving Surface Flatness of Ge for Etchback Ge-on-Insulator Fabrication
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用于回蚀绝缘体上 Ge 制造的各向同性湿法蚀刻和改善 Ge 表面平整度
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and H. Nakashima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
N. Shimizu;K. Yamamoto;D. Wang;and H. Nakashima
