M.Tsunoda: "Microstructure and giant magnetoresistance of Co-Cu granular films fabricated under the extremely clean sputtering process"Journal of Applied Physics. 83. 7004-7006 (1998)
M.Tsunoda: "Microstructure and giant magnetoresistance of Co-Cu granular films fabricated under the extremely clean sputtering process"Journal of Applied Physics. 83. 7004-7006 (1998)
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M.Tsunoda：“极洁净溅射工艺下制造的 Co-Cu 颗粒薄膜的微观结构和巨磁阻”应用物理学杂志。
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