シリコン導波路におけるカスケードラマン増幅の結晶方位異方性
シリコン導波路におけるカスケードラマン増幅の結晶方位異方性
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硅波导级联拉曼放大的晶体取向各向异性
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
田名網宣成,深津晋
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Saito;T. Inokuchi;M. Ishikawa;H. Sugiyama;T. Marukame;T. Tanamoto;長谷川達生;田名網宣成,深津晋
