Nitridation of Silica Characterized by High-energy X-Ray Diffraction Technique
Nitridation of Silica Characterized by High-energy X-Ray Diffraction Technique
复制标题
高能 X 射线衍射技术表征二氧化硅的氮化
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Toru Wakihara
中科院分区：
文献类型：
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作者：
岳辺秀徳;中島孝一;土山聡宏;高木節雄;村上輝夫 編著;Toru Wakihara
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全氢聚硅氮烷热解转化为 Si 3 N 4 ：X 射线衍射分析
DOI：
10.1557/proc-321-573
发表时间：
1993
期刊：
影响因子：
--
作者：
C. Blanchard;S. T. Schwab
通讯作者：
S. T. Schwab
网络形成剂不足的极限下的玻璃形成
影响因子：
56.9
作者：
Shinji Kohara;K. Suzuya;Ken Takeuchi;C. Loong;M. Grimsditch;J. Weber;J. Tangeman;Thomas S. Key
通讯作者：
Thomas S. Key
影响因子：
8.6
作者：
Suehiro, T;Hirosaki, N;Mitomo, M
通讯作者：
Mitomo, M
DOI：
10.1039/b512840d
发表时间：
2006-12
期刊：
Physical chemistry chemical physics : PCCP
影响因子：
--
作者：
T. Wakihara;S. Kohara;G. Sankar;Seijiro Saito;M. Sánchez-Sánchez-M.-Sánchez-Sánchez-1398732651;A. Overweg;W. Fan;M. Ogura;T. Okubo
通讯作者：
T. Wakihara;S. Kohara;G. Sankar;Seijiro Saito;M. Sánchez-Sánchez-M.-Sánchez-Sánchez-1398732651;A. Overweg;W. Fan;M. Ogura;T. Okubo
DOI：
10.4028/www.scientific.net/msf.386-388.365
发表时间：
2002
期刊：
影响因子：
--
作者：
H. Brequel;S. Enzo;G. Gregori;H. Kleebe;A. Hannon
通讯作者：
A. Hannon