Tadahiro Ohmi: "Dual-Frequency-Excitation Plasma for Perfect Parameter Controlled Advanced Semiconductor Processing" The Second International Symposium on Sputtering & Plasma Processes. 123-126 (1993)
Tadahiro Ohmi: "Dual-Frequency-Excitation Plasma for Perfect Parameter Controlled Advanced Semiconductor Processing" The Second International Symposium on Sputtering & Plasma Processes. 123-126 (1993)
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大江忠宏：“双频激发等离子体实现完美参数控制的先进半导体加工”第二届国际溅射研讨会
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