陽極酸化援用研磨による4H-SiCの平滑化に関する研究 －セリアスラリーを電解液とした場合の研磨特性－
陽極酸化援用研磨による4H-SiCの平滑化に関する研究 －セリアスラリーを電解液とした場合の研磨特性－
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阳极氧化辅助抛光4H-SiC平滑化研究-以二氧化铈浆料为电解质时的抛光特性-
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
山村和也
中科院分区：
文献类型：
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作者：
細谷憲治;今西勇介;遠藤勝義;山村和也
