プラズマ誘起欠陥の発生と修復 ～結晶シリコン上でのモニタリング～
プラズマ誘起欠陥の発生と修復 ～結晶シリコン上でのモニタリング～
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等离子体引起的缺陷的产生和修复〜晶体硅的监测〜
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
松原 浩司
中科院分区：
文献类型：
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作者：
布村 正太;坂田 功;松原 浩司
