T.Yamada, H.Fukuda and S.Nomura: ""Characterization of Ge Nanocrystals Embedded in SiO_2 Films" (in Japanese)"The Transaction of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers. Vol.CPM2000-86, No.272. 13-18 (2000)
T.Yamada, H.Fukuda and S.Nomura: ""Characterization of Ge Nanocrystals Embedded in SiO_2 Films" (in Japanese)"The Transaction of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers. Vol.CPM2000-86, No.272. 13-18 (2000)
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T.Yamada、H.Fukuda 和 S.Nomura：““嵌入 SiO_2 薄膜中的 Ge 纳米晶体的表征”（日文）”电子、信息和通信工程师学会会刊。
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