Using pendant ferrocenyl group(s) as an intramolecular standard to probe the reduction of diiron hexacarbonyl model complexes for the sub-unit of [FeFe]-hydrogenase
Using pendant ferrocenyl group(s) as an intramolecular standard to probe the reduction of diiron hexacarbonyl model complexes for the sub-unit of [FeFe]-hydrogenase
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使用悬挂的二茂铁基作为分子内标准品来探测 [FeFe]-氢化酶亚基的二铁六羰基模型复合物的还原
DOI：
10.1016/j.elecom.2009.12.023
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发表时间：
2010-03
影响因子：
5.4
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
描述了两种二铁六羰基配合物[Fe2(SXS)(CO)6]1 (SXS=((−SCH2)2C(CH3)CH2OCOFc, Fc=二茂铁基)和2 (SXS=(−SCH2CH2NHCOFc)2)2)的合成和表征。通过使用配合物中分子内集成的二茂铁基作为内标，两个逐步的性质清楚地证明了配合物的单电子过程与化学反应的结合，在 Ar/CO 气氛下增加扫描速率和降低温度，研究了还原如何转变为单一的单电子过程，最终表明两种配合物的还原都与涉及 CO 损失的化学反应相结合。
The synthesis and characterisation of two diiron hexacarbonyl complexes [Fe2(SXS)(CO)6], 1 (SXS=((−SCH2)2C(CH3)CH2OCOFc, Fc=ferrocenyl group) and 2 (SXS=(−SCH2CH2NHCOFc)2), were described. By using intramolecularly integrated ferrocenyl group(s) in the complexes as an internal standard, the nature of two stepwise one-electron processes of the complexes coupled with a chemical reaction was clearly demonstrated. Examining how the reduction transformed into sole one-electron process with both increasing scanning rate under Ar/CO atmosphere and lowering temperature indicated conclusively that the reduction of both complexes couples to a chemical reaction which involves CO-loss.
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影响因子：
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作者：
Doris A. Smith;B. Zhuang;W. Newton;J. W. Mcdonad;F. A. Schultz
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Doris A. Smith;B. Zhuang;W. Newton;J. W. Mcdonad;F. A. Schultz
影响因子：
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作者：
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Heinekey, D. Michael
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4.6
作者：
Takahiko Kojima;Daisuke Noguchi;T. Nakayama;Y. Inagaki;Y. Shiota;K. Yoshizawa;K. Ohkubo;S. Fukuzumi
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Takahiko Kojima;Daisuke Noguchi;T. Nakayama;Y. Inagaki;Y. Shiota;K. Yoshizawa;K. Ohkubo;S. Fukuzumi
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作者：
J. Capon;Salah Ezzaher;F. Gloaguen;F. Pétillon;P. Schollhammer;J. Talarmin;Thomas J. Davin;J. McGrady;K. Muir
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J. Capon;Salah Ezzaher;F. Gloaguen;F. Pétillon;P. Schollhammer;J. Talarmin;Thomas J. Davin;J. McGrady;K. Muir
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作者：
Isabelle Tranchant;Anne-Cécile Hervé;S. Carlisle;P. Lowe;C. Slevin;Camilla Forssten;J. Dilleen;R. Bhalla;David E. Williams;A. Tabor;H. Hailes
通讯作者：
Isabelle Tranchant;Anne-Cécile Hervé;S. Carlisle;P. Lowe;C. Slevin;Camilla Forssten;J. Dilleen;R. Bhalla;David E. Williams;A. Tabor;H. Hailes