Atomic layer stacking structure and negative uniaxial magnetocrystalline anisotropy for Co100-xIrx sputtered films
Atomic layer stacking structure and negative uniaxial magnetocrystalline anisotropy for Co100-xIrx sputtered films
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Co100-xIrx溅射薄膜的原子层堆叠结构和负单轴磁晶各向异性
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Naoki Nozawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Osamu TAKAKUWA;Kouhei YAMAMIYA and Hitoshi SOYAMA;Ken-ichi Uchida;Osamu TAKAKUWA and Hitoshi SOYAMA;内田健一;高桑脩，祖山均;Ken-ichi Uchida;Naoki Nozawa
