Surface Finishing Method Using Plasma Chemical Vaporization Machining for Narrow Channel Walls of X-Ray Crystal Monochromators
Surface Finishing Method Using Plasma Chemical Vaporization Machining for Narrow Channel Walls of X-Ray Crystal Monochromators
复制标题
X射线晶体单色仪窄通道壁的等离子体化学气化加工表面处理方法
DOI：
10.20965/ijat.2019.p0246
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发表时间：
2019
影响因子：
1.1
通讯作者：
K. Yamauchi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Hirano;Y. Morioka;S. Matsumura;Y. Sano;T. Osaka;S. Matsuyama;M. Yabashi;K. Yamauchi
