高輝度放射光による埋もれた界面の研究の最前線(招待講演)
高輝度放射光による埋もれた界面の研究の最前線(招待講演)
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高强度同步辐射埋地界面研究前沿(特邀报告)
DOI:
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发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
坂田修身
中科院分区:
文献类型:
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作者:
A.Sujith;T.Itoh;H.Abe;A.A.Anas;V.Biju;M.Ishikawa;坂田修身