Low Temperature Hetero-Epitaxy of Ferromagnetic Silicide on Ge Substrates for Spin-Transistor Application
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用于自旋晶体管应用的 Ge 衬底上铁磁性硅化物的低温异质外延
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y. Ando et. al
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y.Ohta;et al;Y. Ando et. al;Takeshi Machida;Y. Ando et. al
