DCバイアス印加した共スパッタ法によるMo1-xWxS2のコンビナトリアル成膜
DCバイアス印加した共スパッタ法によるMo1-xWxS2のコンビナトリアル成膜
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通过施加直流偏压共溅射组合沉积 Mo1-xWxS2
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
若林整
中科院分区：
文献类型：
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作者：
橋本侑祐;石原聖也;日比野祐介;小柳有矢;山﨑浩多;小椋厚志;若林整
