M.Ishida: "A new etching method of single crystal Al2O3 film on Si using Si ion implantation" Proc. Of the 8th Int. Conf. On Solid-State Sensor and Actators. 87-90 (1995)
M.Ishida: "A new etching method of single crystal Al2O3 film on Si using Si ion implantation" Proc. Of the 8th Int. Conf. On Solid-State Sensor and Actators. 87-90 (1995)
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M.Ishida：“利用硅离子注入在硅上刻蚀单晶 Al2O3 薄膜的新方法”Proc.
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