スパッタリング法により作製したBi,Pb-2223薄膜の臨界電流密度
スパッタリング法により作製したBi,Pb-2223薄膜の臨界電流密度
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溅射法制备Bi,Pb-2223薄膜的临界电流密度
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
土屋 啓輔
中科院分区：
文献类型：
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作者：
土屋 啓輔
