Comparative study of annealing and oxidation effects in a-SiC:H and a-SiC thin films deposited by radio-frequency magnetron sputtering
Comparative study of annealing and oxidation effects in a-SiC:H and a-SiC thin films deposited by radio-frequency magnetron sputtering
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DOI：
10.1016/j.tsf.2010.11.005
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发表时间：
2011-01
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
A. Vasin;S. Muto;Y. Ishikawa;A. Rusavsky;Tomohiko Kimura;V. Lysenko;A. Nazarov
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Vasin;S. Muto;Y. Ishikawa;A. Rusavsky;Tomohiko Kimura;V. Lysenko;A. Nazarov
