T.Hanada: ""Preparation of Ge microcrystal-embeded amorphous silica films by rf-sputtering"" Proc.37th Japan Cong.Material Research. 37. 73-77 (1994)
T.Hanada: ""Preparation of Ge microcrystal-embeded amorphous silica films by rf-sputtering"" Proc.37th Japan Cong.Material Research. 37. 73-77 (1994)
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T.Hanada：“通过射频溅射制备嵌入 Ge 微晶的无定形二氧化硅薄膜”，Proc.37th Japan Cong.Material Research。
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