Electrical properties of boron-doped diamond films after annealing treatment
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DOI：
10.1016/0925-9635(94)05317-0
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发表时间：
1995-04
影响因子：
4.1
通讯作者：
Chia-Fun Chen;Sheng-Hsiung Chen
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Chia-Fun Chen;Sheng-Hsiung Chen
