微小領域選択成長によるSi上III/V化合物半導体層の形成
微小領域選択成長によるSi上III/V化合物半導体層の形成
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微区选择性生长在Si上形成III/V族化合物半导体层
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中野 義昭
中科院分区：
文献类型：
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作者：
出浦 桃子;杉山 正和;星井 拓也;中根 了昌;竹中 充;菅原 聡;高木 信一;中野 義昭
