Y.Nakagami: "Plasma CVD of Thermally Stable Low Dielectric Constant Fluorocarbon Thin Films Using C_2F_4 and Si(NCO)_4" Proc.15th Symp.Plasma Processing. 15. 9-12 (1998)
Y.Nakagami: "Plasma CVD of Thermally Stable Low Dielectric Constant Fluorocarbon Thin Films Using C_2F_4 and Si(NCO)_4" Proc.15th Symp.Plasma Processing. 15. 9-12 (1998)
复制标题
Y.Nakagami：“使用 C_2F_4 和 Si(NCO)_4 的热稳定低介电常数氟碳薄膜的等离子体 CVD”Proc.15th Symp.Plasma 处理。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
