Formation of epitaxial Al2O3/NiAl(110) films by aluminium deposition
Formation of epitaxial Al2O3/NiAl(110) films by aluminium deposition
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通过铝沉积形成外延 Al2O3/NiAl(110) 薄膜
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M.Yoshitake
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y.Lykhach;V.Moroz;M.Yoshitake
