アントラセン分子によるナノグラフェン表面の修飾
アントラセン分子によるナノグラフェン表面の修飾
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蒽分子修饰纳米石墨烯表面
DOI:
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发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
高橋 周作,関谷 亮,灰野 岳晴
中科院分区:
文献类型:
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作者:
Masaya Yoshida;Takehiro Hirao;Takeharu Haino;作道直幸;高橋 周作,関谷 亮,灰野 岳晴