H. Hamamura, R. Yamamoto, K. Takahiro, S. Yamaguchi, H. Komiyama, and Y. Shimogaki: "FMCVD (Flow Modulation Chemical Vapor Deposition) for reducing residual chlorine concentration in TiN films"Proc. Advanced Metallization Conference. 345-349 (1999)
H. Hamamura, R. Yamamoto, K. Takahiro, S. Yamaguchi, H. Komiyama, and Y. Shimogaki: "FMCVD (Flow Modulation Chemical Vapor Deposition) for reducing residual chlorine concentration in TiN films"Proc. Advanced Metallization Conference. 345-349 (1999)
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H. Hamamura、R. Yamamoto、K. Takahiro、S. Yamaguchi、H. Komiyama 和 Y. Shimogaki：“用于降低 TiN 薄膜中残留氯浓度的 FMCVD（流量调节化学气相沉积）”Proc。
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