Quick Transcription of Nanopattern using Wet Chemical Etching through Block Copolymer Masks
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通过嵌段共聚物掩模使用湿化学蚀刻快速转录纳米图案
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Tomokazu Iyoda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ryoko Watanabe;Kaori Kamata;Tomokazu Iyoda
