Plasma discharge characteristics in compact SF6 radio-frequency plasma source for plasma etching application
Plasma discharge characteristics in compact SF6 radio-frequency plasma source for plasma etching application
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用于等离子体蚀刻应用的紧凑型 SF6 射频等离子体源的等离子体放电特性
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Fumihiko Uesugi and Akira Ando
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Taisei Motomura;Kazunori Takahashi; Yuji Kasashima;Fumihiko Uesugi and Akira Ando
