A.Moriya, et al: "Low-Temperature Epitaxial Growth of In-Situ Heavily B-Doped Sil-x Gex Films Using Ultraclean LPCVD" MRS Spring Meeting. (印刷中). (1998)
A.Moriya, et al: "Low-Temperature Epitaxial Growth of In-Situ Heavily B-Doped Sil-x Gex Films Using Ultraclean LPCVD" MRS Spring Meeting. (印刷中). (1998)
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A.Moriya 等人：“使用超洁净 LPCVD 进行原位重 B 掺杂 Sil-x Gex 薄膜的低温外延生长”MRS 春季会议（1998 年）。
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