C.-H.Lee, et al.: "Self-align formation of barrier layer for Fully Self-Aligned Metallization MOSFET" IEICE Technical Report. SDM98-127 (1998)
C.-H.Lee, et al.: "Self-align formation of barrier layer for Fully Self-Aligned Metallization MOSFET" IEICE Technical Report. SDM98-127 (1998)
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C.-H.Lee 等人：“用于完全自对准金属化 MOSFET 的势垒层的自对准形成”IEICE 技术报告。
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