First-principles study to obtain evidence of low interface defect density at Ge/GeO2 interfaces

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第一性原理研究以获得 Ge/GeO2 界面低界面缺陷密度的证据

DOI:
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发表时间:
2009
期刊:
Appl. Phys. Lett. 95(1)011908
影响因子:
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通讯作者:
T.Ono
T.Ono
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
S.Saito;T.Hosoi;H.Watanabe;T.Ono

文献摘要

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