Wataru Futako, Toshio Kamiya, C.M. Fortmann, Isamu Shimizu: "The structure of 1.5 to 2.1 eV band gap amorphous silicon films prepared by chemical annealing"J. Non-Cryst. Solids, in print. (2000)
Wataru Futako, Toshio Kamiya, C.M. Fortmann, Isamu Shimizu: "The structure of 1.5 to 2.1 eV band gap amorphous silicon films prepared by chemical annealing"J. Non-Cryst. Solids, in print. (2000)
复制标题
二子涉、神谷俊雄、C.M.
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
