ナノ多層膜の電気めっき法による成膜とその耐摩耗性

ナノ多層膜の電気めっき法による成膜とその耐摩耗性
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电镀法形成纳米多层膜及其耐磨性

DOI:
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发表时间:
2011
期刊:
トライボロジスト 56巻
影响因子:
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通讯作者:
橋本敏
橋本敏
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
服部智哉;兼子佳久;橋本敏

文献摘要

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