Effects of radicals and ions on electronic properties of amorphous carbon films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition
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自由基和离子对等离子体增强化学气相沉积非晶碳薄膜电子性能的影响
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Hori
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Sugiura;L. Jia;H. Kondo;K. Ishikawa;K. Takeda;M. Sekine;M. Hori
