Electron beam evaporation of superconductor-ferromagnet heterostructures.
Electron beam evaporation of superconductor-ferromagnet heterostructures.
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超导体-铁磁异质结的电子束蒸发。
DOI：
10.1038/s41598-022-11828-y
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发表时间：
2022-05-11
影响因子：
4.6
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
本文报道了电子束蒸发在未加热的热氧化硅衬底上制备的超导体-铁磁体异质结构的电子和磁性能。多晶铌薄膜（5 ~ 50 nm厚）具有可靠的高超导临界温度（），这与薄膜的残余电阻率（RRR）密切相关。这些性能在非原位退火过程中得到改善，导致和RRR分别提高了2.2 K（预退火的40%）和0.8 K（预退火RRR的60%）。Nb/Pt/Co/Pt异质结构在超薄极限（≤2.5 nm）表现出明显的垂直各向异性，即使在Pt(0.8 nm)/Co(1 nm)/Pt（0.6 nm）的极限值也是如此。这些结果表明，利用电子束蒸发技术可以获得视线沉积的、低厚度的、高质量的铌基超自旋电子多层膜。
We report on the electronic and magnetic properties of superconductor-ferromagnet heterostructures fabricated by electron beam evaporation on to unheated thermally oxidised Si substrates. Polycrystalline Nb thin films (5 to 50 nm thick) were shown to possess reliably high superconducting critical temperatures (), which correlate well with the residual resistivity ratio (RRR) of the film. These properties improved during ex-situ annealing, resulting in and RRR increases of up 2.2 K ( 40% of the pre-annealed ) and 0.8 ( 60% of the pre-annealed RRR) respectively. Nb/Pt/Co/Pt heterostructures showed substantial perpendicular anisotropy in the ultrathin limit (≤ 2.5 nm), even in the extreme limit of Pt(0.8 nm)/Co(1 nm)/Pt(0.6 nm). These results point to the use of electron beam evaporation as route to line-of-sight deposited, low-thickness, high quality Nb-based superspintronic multilayers.
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影响因子：
19.6
作者：
Gingrich, E. C.;Niedzielski, Bethany M.;Birge, Norman O.
通讯作者：
Birge, Norman O.
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作者：
Feng, Z.;Robinson, J. W. A.;Blamire, M. G.
通讯作者：
Blamire, M. G.
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1.9
作者：
FUGGLE, JC
通讯作者：
FUGGLE, JC
DOI：
10.1016/0368-2048(77)85108-6
发表时间：
1977-01-01
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作者：
Jeon, Kun-Rok;Montiel, Xavier;Robinson, Jason W. A.
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Robinson, Jason W. A.