変位電流法による金属／半導体界面でのキャリア注入障壁の測定
変位電流法による金属／半導体界面でのキャリア注入障壁の測定
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采用位移电流法测量金属/半导体界面载流子注入势垒
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
佐藤井一，宮尾文啓，吉田恵亮，田島裕之
中科院分区：
文献类型：
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作者：
名古屋渉;田中一生;森木和也;尾崎神太郎;長谷川尊之;田中義人;田島裕之;佐藤井一;佐藤井一，宮尾文啓，吉田恵亮，田島裕之
